在生物发酵行业(如抗生素、疫苗、氨基酸、酶制剂生产)中,pH 值是调控微生物代谢、保障发酵过程稳定及产物质量的核心参数。发酵罐内的 pH 传感器需同时满足两大核心要求:一是无菌设计,杜绝传感器与发酵体系的接触部位成为污染源头(如杂菌侵入),否则会导致发酵失败、产物污染等严重后果;二是长期稳定性,发酵周期通常为数十小时至数天(如青霉素发酵周期约 6~8 天),传感器需在高温灭菌、高渗透压、复杂培养基环境下持续精准测量,避免因数据漂移导致工艺调控失误。
生物发酵的核心是“纯种培养",杂菌污染会与生产菌株争夺营养、产生有毒代谢产物,导致产物收率下降甚至批次报废。pH 传感器作为插入发酵罐内的关键器件,其无菌设计需覆盖“安装接口、密封结构、灭菌兼容性"三大核心环节,形成全链条无菌防护。
传感器与发酵罐的连接接口是无菌防护的第-道关卡,需满足“易清洁、耐灭菌"要求:① 优先采用符合 3A、EHEDG 卫生级标准的法兰接口(如 DIN 11851 法兰),接口表面粗糙度 Ra≤0.8 μm,避免凹陷、缝隙等清洁死角,防止培养基残留滋生杂菌;② 接口需配备“蒸汽屏障"结构,即在传感器与法兰连接处设置独立的蒸汽通入通道,灭菌时通入高温蒸汽(121℃、0.1 MPa),形成无菌屏障,阻止外界空气或杂菌通过接口间隙侵入;③ 传感器插入深度需精准控制,通常伸出罐内壁 5~10 mm,既要确保敏感膜与发酵液充分接触,又要避免与搅拌桨碰撞,同时减少培养基在传感器根部的堆积。
某疫苗生产企业曾因采用普通螺纹接口连接 pH 传感器,接口缝隙处残留的培养基在发酵过程中滋生杂菌,导致连续 3 批疫苗发酵污染,直接经济损失超 50 万元。更换为卫生级法兰接口并增设蒸汽屏障后,污染问题解决。
密封结构的核心目标是“阻止发酵液渗漏、防止外界杂菌侵入",需采用“双重密封+耐灭菌材料"设计:① 密封件优先选用全氟弹性体(如 Kalrez)或氟橡胶(FKM),这类材料耐高温(可耐受 134℃ 反复灭菌)、耐培养基腐蚀(如酸、碱、有机溶剂),且不会释放有害物质污染发酵液;避免使用普通橡胶密封件,其在高温灭菌后易老化、变形,导致密封失效;② 采用“径向密封+轴向密封"双重结构:径向密封通过密封圈与传感器外壳的过盈配合,阻断径向泄漏通道;轴向密封通过压盖螺栓施加预紧力,使密封圈紧密贴合法兰端面,阻断轴向泄漏通道;③ 密封件安装时需确保无扭曲、无划痕,安装后需进行气密性测试(采用压力衰减法,压力维持 0.2 MPa,30 分钟内压力下降≤0.01 MPa 为合格)。
发酵罐通常采用原位灭菌(SIP)方式(121~134℃、0.1~0.2 MPa 蒸汽灭菌 20~30 分钟),部分场景需配合在线清洗(CIP),pH 传感器需适配这两种工艺:① 传感器整体需具备 SIP 兼容性,敏感膜、参比电极、电缆接口等部件均需耐受反复灭菌(通常要求可耐受 1000 次以上 121℃ 灭菌);② 参比电极需采用“双液接"设计,内液接界与发酵液隔离,避免灭菌时高温蒸汽破坏参比体系,同时防止培养基成分污染参比液;③ 电缆接口需采用密封式航空插头,灭菌时需套上专用密封帽,防止蒸汽侵入电缆内部导致短路或绝缘性能下降;CIP 清洗时,传感器需能耐受酸碱清洗液(如 0.5% 氢氧化钠溶液、1% 硝酸溶液)的浸泡,且表面无残留。
发酵罐内环境复杂:高温灭菌的反复冲击、培养基中高浓度糖分/蛋白质/盐类的侵蚀、微生物代谢产生的有机酸/生物碱导致的 pH 剧烈波动、搅拌桨带来的机械磨损,均会影响 pH 传感器的稳定性。传感器的长期稳定性需通过“电极结构优化、抗污染设计、校准与维护策略"三大维度保障,确保在整个发酵周期内(数十小时至数天)测量误差≤±0.1 pH。
电极是传感器的核心部件,其结构设计直接决定稳定性:① 工作电极采用“低阻抗玻璃膜"(阻抗<100 MΩ),这类膜响应速度快(≤20 秒),且在高温灭菌后性能衰减慢,能长期维持稳定的氢离子响应;玻璃膜表面需进行“增强耐磨损处理"(如涂覆纳米陶瓷涂层),减少搅拌桨带来的机械磨损;② 参比电极采用“凝胶型参比体系+大孔径液接界",凝胶型参比液(如 3M KCl 凝胶)不会因高温灭菌导致体积膨胀泄漏,大孔径液接界(孔径>10 μm)能减少培养基中蛋白质、多糖等大分子物质的堵塞,确保参比电位稳定;③ 内置高精度温度补偿电极(如 PT1000),实时监测发酵液温度并修正 pH 测量值,避免温度变化(发酵过程中因微生物代谢放热,温度可能升高 5~10℃)导致的误差。
培养基中的蛋白质、多糖、微生物代谢产物等易吸附在电极表面,形成“污染膜",导致响应迟钝、数据漂移。抗污染设计需从“表面改性、自动清洁"两方面入手:① 电极表面进行“疏水性改性"(如涂覆聚四氟乙烯涂层),降低蛋白质、多糖的吸附能力,减少污染膜形成;② 配备“在线自动清洁装置",常见类型包括:超声波清洁(发酵间隙开启,频率 20~40 kHz,每次清洁 30 秒,去除表面吸附物)、蒸汽清洁(利用 SIP 灭菌的蒸汽,对电极表面进行高温吹扫)、化学清洁(定期通入微量清洁液,如稀盐酸溶液,溶解表面沉积物);③ 采用“流通式测量"结构(适用于高黏度培养基),通过泵将发酵液循环流经传感器测量腔,避免高黏度培养基在电极表面堆积。

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